光电材料与探测技术研究团队与台湾中兴大学和美国奥本大学合作，研究了生长在不同蓝宝石衬底表面上的氮化铝薄膜的微观结构、表面化学态及其光学性质。该工作以“Surface,Structural and Optical Properties of AlN thin films grown on different face sapphire substrates by metalorganic chemical vapor deposition” 为题目, 发表在 SCI二区刊物 Applied Surface science（458 (2018) 972–977, IF=4.4），作者包括李瑶（研究生），张驰（研究生），罗旭光（研究生），梁远兰（研究生），武东星（台湾中兴大学），Chin-Che Tin (美国奥本大学)，陆翔^*，何开岩，万玲玉^*，冯哲川^*。

该研究利用高分辨X射线衍射、拉曼散射光谱、扫描电子显微镜和X射线光电子能谱等检测手段。测定了AlN薄膜的位错密度、晶体取向、表面氧化物薄膜厚度及拉曼光谱线宽。讨论了薄膜的表面组成、微观结构和光学性能之间的相关性，重点讨论了蓝宝石衬底不同表面取向对AlN薄膜生长的初始层性能的影响。这一工作为氮化铝薄膜材料在光电子器件中的应用提供了参考与借鉴。